半导体超纯水介绍

随着半导体工业的不断发展，对清洁水的电导率、离子含量、TOC、do和颗粒物的要求越来越严格。由于超纯水在许多指标上对半导体的要求很高，因此半导体行业的超纯水与其他行业的用水要求不同。半导体行业对超纯水有严格的水质要求。目前，半导体所用的超纯水需要达到的水质标准为:我国电子工业部电子级水质技术标准(18MQ.cm、15MO.cm、10MO.cm、2M.O.cm、0.5M.O.cm五级标准)，我国电子工业部高纯水水质试行标准，国内外大规模集成电路水质标准等。

那么，如何产出高质量的半导体超纯水?

建议采用“两级RO+EDl+精混床除盐水处理工艺”这类的超纯水设备，可保证处理后的水电阻和电电阻达到18MO.cm以上。除了采用以上工艺外，结构设计也需要相对紧凑，这样一来占地面积小可为企业节省大量建设空间。这种半导体超纯水设备出厂前都是需进行压力测验的，所以出现故障概率小。还可以配备反渗透预脱盐技术，再次从根本上确保了水处理设备的出水质量。

电子级水UV-TOC控制系统

半导体超纯水介绍产品规格：

集成电路超纯水应用领域：

1. 半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路板

2. 电解电容器生产铝箔及工作件的清洗

3. 电子管生产、电子管阴极涂敷碳酸盐配液

4. 黑白显像管荧光屏的生产、波壳清洗、沉淀、洗膜、管颈清洗

5. 液晶显示器的生产、屏面清洗

6. 集成电路生产中高纯水清洗硅片

7. LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏的生产