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TOC超纯水
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更新时间:2024-07-22  |  阅读:2013

详情介绍

TOC超纯水

微电子行业制备超纯水流程中,因紫外线技术在超纯水高品质要求中不引入新的物质,而得到广泛应用。

有机物是超纯水系统中最难控制的污染,随着集成电路临界尺寸不断缩小挑战,对超纯水中TOC值的要求越来越高,因此,如何配置紫外线,如何确认配置中紫外线设备的有效紫外剂量,进而使TOC去除合格且水中溶解氧不升高,安力斯将为您解决这些运营困扰。

185nmUV主要用于去除超纯水制备过程中的TOC,使出水满足美国ASTM超纯水水质标准及电子工业部电子级水水质标准。

超纯水可以在以下领域使用:
(1)电子、电力、电镀、照明电器、实验室、食品、造纸、日化、建材、造漆、蓄电池、化验、生物、制药、石油、化工、钢铁、玻璃等领域。
(2)化工工艺用水、化学药剂、化妆品等。
(3)单晶硅、半导体晶片切割制造、半导体芯片、半导体封装 、引线柜架、集成电路、液晶显示器、导电玻璃、显像管、线路板、光通信、电脑元件 、电容器洁净产品及各种元器件等生产工艺。
(4)高压变电器的清洗等

 

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TOC超纯水

产品规格:

处理水量

2~60m3/h

灯管配置

12~48支

灯管类型

85w/155w(185/254nm双波段)

石英套管

T>80%@185nm

镇流器

50~100%输出功率可调

反应器材质

316L

洁净等级

内外电解抛光、表面光洁度10以上(≤Ra0.2)

法兰尺寸

DN50~DN200

额定压力

PN10

控制柜等级

IP55,碳钢喷塑

控制系统

本地/远程、触摸屏、连接SCADA系统

UV强度传感器

分辨率0.01mw/cm2

 

 

 

 

 

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